中国掌握新型光刻机技术

中国加大对芯片行业的投入，未来将会迎来爆发（图源：VCG）

中国加大对芯片行业的投入，未来将会迎来爆发

因中美贸易战暴露出巨大缺陷的中国芯片行业或迎来转机，中国高校掌握高端光刻机技术获北京嘉奖。

北京时间3月1日，在2018年北京市科学技术奖励大会上，中国知名高校清华大学朱煜团队主导的新型光刻机技术项目获一等奖。

官媒《科技日报》称，该项目全称纳米运动精度光刻机超精密双工件台技术与应用。

报道称，朱煜团队突破的技术，让中国成为全球第二个掌握双工件台研制技术的国家，是该国国产高端光刻机发展的里程碑。

目前，该项目已被应用，并形成效益2.3亿元人民币（1元人民币约合0.149美元）。

报道强调，这项关键技术将推动集成电路制造装备的自主发展。

中美贸易战开打后，美国借在芯片行业占据的优势地位“封杀”中国科技企业中兴、福建晋华，导致后两家企业陷入困境，引发舆论关注。

此后，包括中国国家主席习近平在内的多位领导人在不同场合强调“一些重大核心技术必须靠自己攻坚克难”。

新型光刻机技术项目在这种背景下诞生，对中国芯片行业来说是一个利好消息，也为中美在技术领域的博弈增强北京方面的底气。

据行业人士披露，双工件台是高端光刻机两大最核心技术的其中一个，目前仅有荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）能量产。

 

中国已研制出两台样机，而美日掌握的是单工件台，其生产速度只有每小时80片，双工件台的生产速度可以高达每小时270片至300片。

另外，中国研制的双工件台在高速运动的情况下，达到2纳米的运动精度，接近阿斯麦双工件台的精度。

在这项技术突破前，中国芯片企业中芯国际、长江存储均从阿斯麦进口过高端光刻，两家所花费的费用总计为1.92亿美元。